王向中几人便是到达了晶圆厂的内部核心所在——光刻室。
光刻室，是一家晶圆厂的终极奥秘所在。这里处处遍布着黄色的钠灯用于照明，气压和湿度也达到了一个人类舒适范围之外的指标。
一进入这里，不仅会觉得钠灯的光线特别黄，同时，还会觉得防尘服下变得粘腻燥热起来，就如同进入了高压锅一般。
因为空气的流动特性，气体总是会从高压地区流向低压地区，因此为了保证光刻室内的最大纯净程度，光刻室内的压强起码要比外面的大气压高上50Kpa左右，以保证外部污染物不会随着空气流入光刻室内。
在广义上，光刻中一般包含三个步骤，第一个步骤是涂胶，即涂抹光刻胶。
光刻胶分为正胶和负胶两种，其中正胶遇光就会失去原有化学性质，而负胶遇光就会产生化学性质的变化，这两种胶通常用在不同的工序之中。
第二道工序则是刻蚀，当硅单质基底均匀涂抹光刻胶后，通过光源对光刻胶进行曝光，再使用超纯水和化学物质对基底进行蚀刻，在基底表面留下与光掩模一致的坑道。
而第三道工序则是沉积，在坑道内的不同部分掺入硼、磷等杂质，并使其沉积在基底表面，通过它们不同的化学性质，在基底这张不导电的硅片上人为创造可以单向导电的PN二极管。