个祸患以后，李东也终于是坐实了董事长的位置，水木大学研究组也终于能够安心开展研究工作了。
……
时间一晃，便又过去了半个月的时间。
因为气压对光刻的成像影响还在研究当中，王向中和马建国做过商量之后，便是做出了决定，首先把水木研究组的光刻机改良成果应用在所有光刻机上。
但说实话，气压对光刻机成像的影响是有限的，i线光刻机所使用的光波波长为365纳米，也就是说，它的极限制程就是0.35微米，尽管王向中在上辈子有看过一篇论文，将离轴照明和移相掩模技术相结合，能将i线光刻机的分辨率超过极限，达到0.2微米制程，但这样的研究工作一点都不划算。
现在想要进一步提升光刻机的性能，便只能选择研究波长更低的准分子激光或者是DUV深紫外线光源，但这个目标对于王向中而言，还是太早了一些。
这个问题还不是光有钱就能解决的，虽然在国际上早早地便有论文提出了这些光源的激发方法，但即便是有理论的存在，国内也没有任何一家厂商能将它们化为现实。
好在王向中还有足够的时间去研究光源问题，目前国际主流芯片制程大概也就是0.2微米左右的样子，在4年后，来自宝岛的林坚博士，便会使用浸润式光刻技术，攻克193纳米分辨率的极限。
一想到这，王向中也不知道该怎么办才好了，现在自己的资金积累还不太够，想要研发国产光刻机无疑是痴人说梦，即便是有了资金，也缺乏人才和背后的工业力量制程，同样是死路一条。
虽然他理论知识丰富，但光凭他一个人，把这些来自未来的理论技术给传播出去，恐怕也就是便宜了阿美瑞肯罢了。
但研究工作又不能停滞，总不可能接下来的四年一直围着i线光刻机转吧？
正当他左右为难时，手机突然响了起来。
“叮叮叮——”
王向中叹了一口气，接起电话，对面传来了李东激动的讲话。
“王老弟，你快来厂里的会客厅，陈正博士回来了！”
陈正博士？他听到这话也是怔了怔，旋即面色也是一阵狂喜，他突然想起来，上次陈正博士承诺了要带专家来指导工作，想必这次也是把人给找到了，带着对方来了晶华做客。
陈正博士口中的专家，可不是自己这种只懂得理论知识的假专家，而是名副其实的，耕耘在一线多年的真正的工程师专家！
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